三星宣布 2022 年底前量产 8 层 TSV 技术堆叠 DDR5 内存



外电报导指出,韩国三星电子在 23 日举行的在全球半导体产业会议 Hotchips 33 上表示,三星电子将于 2022 年底开始量产 8 层堆叠的 DDR5 内存。

根据韩国媒体《THEELEC》报导指出,韩国三星电子将于 2022 年底开始量产的 8 层堆叠 DDR5 内存。其将使用其硅通孔 (TSV) 技术,将 512GB DDR5 内存模组进一步堆叠起来。而目前该公司已经生产出 4 层堆叠,并采用 TSV 技术整合 DDR4 内存模组的内存,整个芯片的厚度仅 1.2 毫米。

报导引用三星的说法表示,尽管可堆叠到 8 层 DDR5 内存模组,但整个 DDR5 内存仍将比 1 毫米更薄。而且与 DDR4 内存相较,新的 DDR5 内存还将具有更好的散热功能,而这要归功于新型材料的应用所导致。另外,三星还在模组中也采用自己开发的新款电源管理 IC 来降低噪音,并使其有较优秀的功耗性能。

报导进一步指出,三星新的 8 层堆叠 DDR5 内存将具有 7.2Gbps 的资料传输速度。三星还应用了一种称为决策反馈均衡器的技术,以进一步提升数据传输速率,并保信号的稳定状况。另外,三星还强调,新的内存模组将以资料中心的服务器市场需求为主要供应对象。

(首图来源:shutterstock)

2021-08-27 04:02:00
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