对于半导体这类工艺精密和环境敏感的领域来说，从加工环节到最终储存，传感器设备的灵敏度、精确度以及自身性能表现在其中起着至关重要的作用。
加工环节
真空沉积和深反应离子刻蚀(DRIE)等现代半导体加工工艺
这些工艺需要对各种气体进行快速控制，Sensirion质量流量控制器能够非常快速地控制/切换工艺气体，并可用于表面涂覆和处理工艺，保证处理速度的同时能够兼顾质量。
清洁处理
采用深反应离子刻蚀(DRIE)工艺对晶圆表面做清洁处理时，工艺气体的更换必须非常迅速。Sensirion质量流量控制器具有超快响应速度，可提高处理质量。
超快处理速度
采用深反应离子蚀刻(DRIE)工艺处理晶圆时，必须迅速更换不同工艺气体。Sensirion质量流量控制器具有超短响应时间，可加快工艺速度。
长期稳定性
质量流量控制器可长期保持高度稳定性，因此系统无需暂停运行以重新校准。
储存环节
存储半导体芯片的核心工具 (FOUP)
FOUP是储存半导体芯片的重要工具，也是洁净室环境的一个组成部分。Sensirion的产品在尺寸、精度和性能上具备优势，可以轻松地集成到晶圆载体系统中，从而提高系统的可靠性和性能。
精确的环境控制
通过清洗FOUP并注入氮气，控制存储晶圆的环境。在预处理过程中也可以注入其他气体，用于生产更精细的芯片（例如GAA芯片和3nm芯片）。
实时监控
FOUP可以持续监测湿度、氧气和空气中的分子污染物等参数，避免颗粒在晶圆表面沉积和氧化。
安全运输和自动化处理
自动化可确保晶圆安全送到洁净室，同时尽可能降低处理不当的风险，最终优化制造工艺并提高吞吐量。
Sensirion传感器解决方案还适用于其他工业应用，如晶圆清洗机、玻璃镀膜和加工、光伏镀膜设备、气相色谱法、生物反应器及工业自动化等领域。
基于热式测量原理和Sensirion成熟的CMOSens® MEMS技术，SFC系列质量流量控制器被广泛应用于工业领域设备，在速度、精确度和动态范围方面获得一致好评。其核心是内含的高精度传感器元件，在单个芯片上集成先进的信号处理功能。即使是在低流速的条件下，Sensirion技术在精确度和重复性方面也能达到相当高的水准，同时Sensirion质量流量控制器零漂移，且无需现场重新校准。
“工”欲善其事 必先利其“器”
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选购指南
满量程流速
所有的质量流量控制器同时提供流量计版本 - SFM系列（不带阀门）。它们具有与MFC变体相同的性能和可配置性，更具性价比。
随着工业自动化程度的不断提高以及物联网、人工智能等多项技术的不断发展，Sensirion也将凭借其核心技术和定制化服务的优势在更多领域发挥强大潜力，让我们共同期待Sensirion为未来工业领域带来更多创新和变革。
