SK 海力士以 EUV 扩产中国无锡厂碰壁,传美国不准



《路透社》报导,美中科技战影响下,冲击到韩国内存制造商 SK 海力士中国无锡厂扩产计划。原本 SK 海力士希望中国无锡厂采用含极紫外光曝光设备 EUV 先进制程生产内存,以因应市场需求,然而美国-限制 EUV 设备进入中国,扩产计划陷入胶着。

美中科技战影响,美国-认为 EUV 曝光设备协助中国提高国防军事力量,禁止设备输往中国。对是否阻止 SK 海力士中国无锡厂使用 EUV 光设备,虽然美国官员没有正面回应,仍表示拜登-专注阻止中国利用美国和盟国设备与技术,开发先进半导体助中国军事现代化。

SK 海力士中国无锡工厂对该公司及全世界内存产业来说都相当重要,因占总产量一半,且占全球 DRAM 供应量 15%。DRAM 产业 2021 年市场需求较前一年提升 19%,任何变动都会使全球市场动荡。SK 海力士无锡工厂原本要采用含 EUV 曝光设备的先进制程,2~3 年内生产更先进 DRAM,不过现在可能面临难题。

知情人士透露,SK 海力士无锡工厂无法使用含 EUV 曝光设备的先进制程后,SK 海力士与三星与美商美光的竞争会居劣势。竞争对手预计分别在韩国及台湾生产据点采用含 EUV 曝光设备的先进制程生产 DRAM,不仅 SK 海力士公司内部严重关切,甚至高层也与美国积极讨论。SK 海力士发稿前并没有正式声明,仅指公司尽最大努力回应市场和客户需求。

报告引用市场分析师说法,即便 SK 海力士将 EUV 曝光设备运往中国无锡工厂,使用者还是 SK 海力士,不过这其实与中国企业企图输入 EUV 曝光设备相差无几。市场研究及调查机构 VLSIresearch 首席执行官 Dan Hutcheson 说,SK 海力士目前被夹在美中角力之间,美国-禁止输出高科技产品到中国的禁令,几乎涵盖外国与中国企业所有范围。一旦 EUV 曝光设备输入中国,美国担心不知道会落到谁手上,且中国总能把 EUV 曝光设备拿去做想做的事。

(首图来源:SK 海力士)

2021-11-19 01:58:00
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