台积电:3 / 5 奈米将成大规模且长期需求制程,另积极扩充 28 奈米产能



台积电 N5 技术进入量产第三年,智能手机和高效能运算应用推动下,需求持续强劲,证明台积电 N5 技术为业界最具竞争力的先进制程技术。为了进一步提升下一波 5 奈米制程产品的效能、功耗和密度,台积电推出 N4P 和 N4X 制程技术。与 N5 相比,N4P 效能提升 11%,功耗降低 22%,密度增加 6%。N4P 设计能自 N5 轻松升级,首批产品设计定案预计 2022 下半年。

台积电也专门针对优化高效能运算产品的工作负载,推出 N4X 制程技术。N4X 将比 N5 提供更好的效能,预计在 2023 年上半年进入试产。随着 N5 制程的不断提升,台积电预计未来几年对我们 5 奈米家族的需求将持续成长,5 奈米家族将成为台积电大规模,且被长期需求的制程技术。

至于,N3 制程技术将使用 FinFET 晶体管架构,来提供客户最成熟的技术、最好的效能及最佳的成本。而 N3 按照计划开发,也已开发完整平台,支援高效能运算及智能手机应用,N3 预计 2022 下半年量产。台积电指出,持续观察到 N3 相较于 N5 有更多客户参与。预期首年会有更多新的产品设计定案。而 N3E 将为 3 奈米家族的延伸,具有更好的效能、功耗和良率,N3E 的量产时间计划 N3 量产后一年进行。

台积电强调,预计在 N3 技术推出时,在 PPA (效能、功耗及面积) 及晶体管技术上都将会是业界最先进的技术。而凭借台积电技术领先地位和强劲的客户需求,有信心 3 奈米家族将成为台积电大规模,且被长期需求的制程技术。

最后在成熟制程上的策略,台积电是与客户紧密合作开发特殊制程解决方案为主,以支持客户需求,并为客户创造差异化及长期价值。未来几年来自 5G 和 HPC 相关应用的大趋势以及许多终端应用的半导体含量增,,将带动对于成熟制程中的某些特殊制程技术的需求不断增加。

台积电最后还预期,28 奈米将是客户嵌入式内存应用 (embedded memory applications) 的甜蜜点 (sweet spot)。对于台积电的 28 奈米制程长期结构性需求而言,将是来自多种特殊制程技术上。台积电也已经在中国、日本和台湾扩建 28 奈米产能,而其产能扩建是取决于客户需求、商业机会、营运效率和成本考量等因素上。扩建成熟制程产能够使台积电更好服务客户需求,并接触全球人才。尤其,台积电的差异化特殊制程技术,将进一步掌握产业大趋势带来的需求,并为股东带来长期获利成长。

(首图来源:台积电)

2022-01-14 09:57:00
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